Recherche
Un nouveau système s’approche de la limite théorique de la physique.
Ce dispositif atteint une précision remarquable de 0,34 nanomètres en seulement 25 microsecondes et est conçu pour être compact et robuste, ce qui le rend idéal pour des applications en milieu industriel plutôt que limité à des environnements de laboratoire.
En intégrant un peigne à fréquence optique dans une configuration d’interférométrie, le système combine la précision des normes nationales avec une rapidité d’exécution durant la mesure.
En outre, ce développement répond à la nécessité croissante de mesures de haute précision dans les technologies avancées, telles que l’IA et les semi-conducteurs.
Les chercheurs de KRISS cherchent à améliorer encore ce système en évaluant son incertitude de mesure, visant à établir une nouvelle norme de longueur nationale.
Selon le Dr Jang Yoon-Soo, cette avancée est cruciale pour la position de la Corée sur la scène mondiale en matière de métrologie de précision.